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總建筑面積為300000 平方米 三星(中國)半導體有限公司12英寸閃存芯片二期項目(裝配式建筑) (進展1)

2018-04-26 主體工程中標/開工 9 億

項目描述

項目描述 該項目占地面積為536,000平方米,總建筑面積為300,000平方米,包括:
*生產廠房(Fab)
*測試廠房(EDS)
*GCS特氣化配廠房
*UT棟用房
*倉庫
*動力站
*化學品庫
*固廢儲存場所
項目地址 登錄注冊后查看
開工日期 登錄注冊后查看
竣工日期 登錄注冊后查看

跟進記錄

更新日期 跟進階段 跟進溝通細節(jié)
2018-04-26 跟進1 登錄注冊后查看
2018-04-26 跟進1 登錄注冊后查看

項目詳情

工程類型: 登錄注冊后查看 大型項目 登錄注冊后查看
項目類別 登錄注冊后查看
開工日期 ****年**月 竣工日期 ****年**月
建筑面積 300000 平方米 占地面積 536000 平方米
預計成本 9 億 建筑層數 登錄注冊后查看
業(yè)主類型 商業(yè) 外資參與 登錄注冊后查看
外墻材料 登錄注冊后查看 鋼結構 登錄注冊后查看
裝修情況 登錄注冊后查看 電梯情況 登錄注冊后查看
空調情況 登錄注冊后查看 供暖方式 登錄注冊后查看

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